天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MF1000℃)系列，精确控制的1000℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1000℃ 温度分布精度 &pl...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1600℃)，精确控制的1600℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多晶莫来石纤维炉膛...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1400)，精确控制的1400℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定。优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多晶莫来石纤维炉膛...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1200℃)系列，使用温度范围 300～1200℃ 温度分布精度 ±1℃ 内容积 2L 7L 16L 24L ...

天津泰斯特，箱式电阻炉（升级版），经久耐用的热处理工具。优点一体化设计，结构轻巧紧凑。封闭式硅酸铝炉膛，轻质保温砖，保证热量的充分使用。平行左侧开式炉门，使热端...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1300℃）系列，泰斯特出品，精确控制的1300℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多...

陶瓷纤维马弗炉（MF1200℃)系列，精确控制的1200℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定。使用温度范围 300～1200℃ 温度分布精度 ±1...

天津泰斯特，1200°开启式真空/气氛管式炉（TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域优点气路连接方式采用快速连接法...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1700℃），精确控制的1700℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1700℃ 温度分布精度 &pl...

天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1800℃）系列，精确控制的1800℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1800℃ 温度分布精度 &...

该系列流量产品配合真空气氛管式炉一起使用，方便快捷，准确记录气体累计流量。设备为用户提供具有可控气氛的实验环境。优点方便的气路快速连接接口，简化了流量控制系统与...

此CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制...

此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空...

天津泰斯特，1400°真空/气氛管式炉（TF）系列，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域。优点气路连接方式采用快速连接法...

天津泰斯特，箱式电阻炉（升级版）系列Ⅱ，经久耐用的热处理工具，使用温度 10：1000℃ ， 12：1200℃ ，13：1300℃， 温度波动度 ±...

1600℃真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域，此款CVD生长系统适用于CV...

天津泰斯特，1200℃开启式真空/气氛管式炉（TF）系列低配版，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域优点气路连接方式采用...

天津泰斯特，1600℃真空/气氛管式炉（TF）系列，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域，使用温度范围 300～1600...

天津泰斯特，箱式电阻炉（SX、SRJX），经久耐用的热处理工具。优点一体化设计，结构轻巧紧凑。封闭式硅酸铝炉膛，轻质保温砖，保证热量的充分使用。平行左侧开式炉门...